SK하이닉스, 제10회 SK하이닉스 학술대회 개최

SK하이닉스는 구성원들의 기술 개발을 더욱 장려하고 아이디어 공유를 위한 장을 만들고자 2013년부터 매년 ‘SK하이닉스 학술대회’를 개최하고 있다. 올해로 10회를 맞이한 SK하이닉스 학술대회는 지난 10년간 세계 주요 반도체 학회에 맞먹는 논문 수와 채택률을 통해 미래를 이끌 최신 기술과 특허를 배출하며 SK하이닉스가 글로벌 일류 기술기업으로 나아가는 데 큰 역할을 하고 있다.

SK하이닉스 학술대회에는 소자/공정/설계/패키징 등 반도체 전 분야에 걸친 주제의 논문이 매년 800편 가량 접수되고 있다. 이렇게 10년 동안 학술대회에 접수된 누적 논문 수는 6802편이다. 채택된 논문 수는 누적 2603편으로 채택률로 계산하면 38% 수준이다. 이는 세계 3대 반도체 학회로 꼽히는 ISSCC, IEDM, VLSL과 견주어도 뒤지지 않는 논문 수와 채택률로 SK하이닉스 구성원들의 창의성과 성실함을 엿볼 수 있는 숫자다. 참고로 소위 반도체 올림픽이라고 불리는 ISSCC의 연간 접수 논문이 평균 600편이고 채택률은 평균 20%선이다.

올해 제10회 학술대회에서는 총 745편의 논문이 접수됐고 입선 논문은 260편으로 채택률 35%를 기록했다. 양적인 면과 질적인 면에서 모두 뒤지지 않는 논문이 계속해서 배출되고 있는 것이다.

SK하이닉스 구성원들의 적극적인 참여도 눈여겨볼 만하다. 10년간의 누적 참여 인원은 저자 참여 구성원이 1만 347명, 심사 참여 구성원이 1473명이다. 공정한 논문 평가를 위해 심사 참여 인원은 논문 저자가 아닌 구성원으로 선정된다. 2021년 말 기준 SK하이닉스의 구성원 수는 30,056명으로 이와 비교하면 학술대회에 많은 구성원들이 참여하고 있음을 알 수 있다. 학술대회가 소수 인원끼리의 리그가 아닌 SK하이닉스에 전반적으로 흐르는 기업 문화임을 보여주는 증표라 할 수 있다.

학술대회에서 배출된 논문은 그대로 SK하이닉스의 지적 재산이 되고 더 나은 반도체 개발을 위한 토양이 된다. 10년 동안 채택된 논문 중 특허까지 연결된 건은 217건이다. 그리고 이 중에 주요 특허로 선정된 전략 특허는 90건으로 41%의 비중이다. 매년 SK하이닉스에서 출원하는 특허 중 전략 특허의 비중이 10%인 것과 비교하면 매우 높은 수치로 학술대회가 기술적으로 뛰어난 논문을 배출하고 있단 점을 알 수 있다.

또 논문의 열람수도 눈에 띈다. 학술대회에서 발표된 논문의 누적 열람수는 78,763회로 편당 평균 열람수로 계산하면 11.5회로 높은 편이다. 이는 논문이 발표 직후 사장되는 것이 아니라 연구를 위해 활발히 사용되고 있음을 뜻한다. 특히 내부 학술대회의 논문은 외부 학회의 논문에서는 알 수 없는 SK하이닉스의 고유 데이터와 연구 성과를 담고 있어 구성원들의 연구와 업무 참고 자료로 실용적인 도움이 큰 것으로 파악된다.

구성원들의 역량을 드러내고 실질적인 결실로 이어지는 대회인 만큼, 각 구성원에 대한 포상도 준비되어 있다. 학술대회에서 입상한 구성원에게는 상금과 해외 학회에 참관할 기회가 주어지는 등 확실한 동기부여 요소들도 함께 제공하고 있다. 특히 올해는 10주년을 맞아 구성원의 참여를 확대하고 지원하기 위한 제도가 강화되었다.

올해 학술대회는 구성원 참여를 더욱 격려하기 위해 ▲논문 멘토링 제도 ▲논문 마일리지 제도 ▲장려상까지 해외 학회 참관 확대 등을 시행했다.

올해 10회를 맞은 SK하이닉스 학술대회의 슬로건은 ‘We Do Technology, We Talk Technology’로 지난 10년의 기술을 돌이켜보고 앞으로의 10년 기술을 이야기하자는 뜻을 담았다.

학술대회 부대행사로 지난 10년을 이끈 기술을 꼽는 투표와 투표에서 뽑힌 기술을 해설하는 발표가 진행됐다. 각 반도체 분야별로 지난 10년을 이끈 기술이 무엇인지 구성원 1,093명 대상으로 투표를 진행한 결과, DRAM분야 ▲6F2 ▲HBM메모리 ▲Buried Gate / NAND분야 ▲PUC ▲M-Pipeless ▲ON Multi Stack / CIS분야 ▲BSI ▲Black Pearl / 패키징 분야 ▲CoC ▲MR-MUF가 꼽혔다.

투표에서 꼽힌 10년을 이끈 기술 발표는 오프라인과 사내 동영상 채널인 하이튜브를 통해 동시에 진행됐다.

10년을 이끈 기술 발표는 배움을 향한 구성원들의 열정 속에서 종료됐다. 오프라인으로 참석하지 못한 구성원들은 하이튜브를 통해 발표를 지켜보면서 성원을 보냈다.

앞으로 10년을 이끌 기술 해설은 SK하이닉스의 임원이 직접 펠로우 세션을 진행하는 방식으로 이뤄졌다. 펠로우 세션은 학술대회 첫날인 10월 24일에 이천 캠퍼스 R&D센터에서 이뤄졌다. DRAM분야는 미래기술연구원 정수옥 담당, NAND분야는 미래기술연구원 오상현 담당, CIS분야는 CIS Business 서강봉 담당, 패키징분야는 PKG개발 문기일 담당이 순서대로 발표자로 참여했다.

각 발표자는 현재 반도체 개발 수준에서 겪고 있는 기술적인 어려움을 소개하면서 이를 어떻게 극복할 것인지에 초점을 맞춰 발표를 진행했다.

제10회 SK하이닉스 학술대회는 10월 24일부터 28일까지 총 5일간 온/오프라인으로 진행됐다. 학술대회에 채택된 논문 260편은 해당 기간 동안 하이튜브를 통해 발표됐다.

학술대회의 대망을 장식할 시상식과 오프라인 행사는 마지막 날 이천 R&D센터에서 열렸다. 10주년을 맞은 학술대회 마지막 날 현장을 소개한다.

R&D센터 2층에서는 Invited Poster 전시가 열렸다. Invited Poster 전시는 반도체 연구 성과가 뛰어난 외부 교수들을 초대해 학계의 최신 연구실적을 소개하는 자리다. 구성원들의 지적 갈증을 해소해주는 단비 같은 전시라고 할 수 있고, 포스터 앞에서 연구진에게 적극적으로 질문하는 구성원들이 많았다. 전시장은 인파로 가득했고 모든 부스에서 활발하게 질의응답이 이뤄져 반도체 연구에 대한 구성원들의 열정을 느낄 수 있었다.

오후 2시부터는 인피니티홀에서 키노트 스피치와 시상식이 시작됐다. 키노트 스피치는 타다토모 스가 동경대 명예교수가 ‘Surface Activated Bonding for Heterogeneous Integration & Advanced Packaging’을 주제로 발표를 진행했다. 스가 교수는 패키징 기술인 SAB* 기술의 최신 적용 사례와 현재 패키징 분야 연구 방향을 소개했다. 귀한 통찰력이 담긴 스피치에 모든 구성원이 귀 기울여 집중한 나머지 현장의 분위기는 팽팽했다.

키노트 스피치 이후 본격적인 시상식이 시작됐다. 올해 학술대회는 10주년을 맞아 특별상이 준비되어 있었다. 역대 모든 학술대회에 논문을 제출한 DRAM개발 정우영 TL과 논문을 가장 많이 열람한 NAND개발 전남철 TL이 노력과 열정을 인정받아 구성원 참여상을 받았다.

학술대회를 준비하는 데 애쓴 구성원들의 공도 잊지 않았다. 분과위원장으로 5회나 활동한 Global QRA 김상덕 담당과 간사로 4회 참여한 제조/기술 윤석호 TL과 DRAM개발 양수정 TL이 공로상을 받았다

올해에는 논문 마일리지 12점을 초과한 Master 등급이 나타나 시상식을 더욱 화려하게 장식했다. 금 명함 수상의 주인공은 바로 미래기술연구원 권형철 TL로, 대상 1회와 장려상 2회를 수상하고 그 외에 6회 입선한 이력이 있다. 꾸준한 논문 제출로 Master 등급을 획득한 권형철 TL은 다른 구성원들에게 좋은 귀감이 되었다.

특별상 시상 이후에 제10회 학술대회의 본상 시상이 진행됐고, 올해는 장려상 8명, 동상 3명, 은상 1명, 금상 1명, 대상 1명이 뽑혔다. 올해부터는 장려상도 해외학회참석 기회를 얻는다. 장려상은 미래기술연구원의 박우영 TL과 박재오 TL, DRAM개발의 문홍기 TL과 김희동 TL, Solution개발 육영섭 TL, 안전보건환경 전재욱 TL, P&T 이건백 TL, PKG개발 최진우 TL이 수상했다.

동상은 미래기술연구원 백경준 TL, 제조/기술 신황민 TL, CIS비즈니스 양동주 TL이 받았다. 백경준 TL은 “같이 논문을 작성한 분들과 기쁨을 나누고 싶다. 올해 새롭게 제공된 논문 작성법 강의가 논문을 작성하는 데 큰 도움이 되었다”고 수상 후기를 밝혔다.

은상은 DRAM개발 강지효 TL이 수상했다. 강지효 TL은 “함께 그래픽 메모리 제품을 개발하고 있는 동료들과 얻어낸 값진 성과” 라며 “새로운 기술을 개발하고 제품에 적용할 때마다 SK하이닉스 엔지니어로서 큰 자부심과 보람을 느낀다. 앞으로 더 열심히 하라는 의미로 받은 상인 만큼 그래픽 메모리 제품의 일등 경쟁력을 만드는 기반이 되겠다”라고 소감을 밝혔다.

금상은 Global QRA 탁영준 TL이 수상했다. 탁영준 TL은 “사전 정보없이 시상식에 초대돼 장려상을 받을 거라 예상했는데 금상을 받게 돼 깜짝 놀랐다. 혼자만의 결과물이 아니라 함께 논문을 작성한 공동 저자들의 공이 매우 크다. 앞으로도 더욱 연구에 매진하겠다”라고 수상 소감을 밝혔다.

대망의 제10회 학술대회 대상은 미래기술연구원 허혜은 TL에게 돌아갔다. 허혜은 TL은 “함께 만든 결과물인데 제가 상을 받게 되어 감사할 따름이다. 새로운 내용을 제시한 논문으로 수상하게 돼 보람차고 다음에도 학술대회에 참여해 꾸준한 사람에게 주어지는 마일리지 상을 받을 수 있게끔 노력하겠다”고 수상의 기쁨과 포부를 공유했다.